俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 表示已研發成功350納米光刻機，接下來是希望在2026年研發可以支持130納米的光刻機，這意味著該國正在打破ASML在光刻機市場的壟斷。

在全球光刻機市場，ASML無疑是老大，占有超過六成的市場份額，在EUV光刻機方面更是獨門生意，全球僅有ASML能生産EUV光刻機。

不過EUV光刻機雖然是ASML的獨門生意，但是爲ASML帶來更多收入的還是DUV光刻機，ASML也只是預期未來EUV光刻機的産量提升到100台，而DUV光刻機的産量提高到600台，可見DUV光刻機的市場規模大得多。

在DUV光刻機方面，其實並非ASML所獨有，日本的尼康、佳能等也在生産DUV光刻機，只不過日本的光刻機在浸潤式和EUV光刻機方面落後于ASML，如今佳能則選擇了研發NIL技術，繞開EUV光刻機的限制，據稱佳能的NIL技術已得到日本铠俠和美國美光的采用。

除了他們之外，中國其實也能生産光刻機，只不過公開的報道指出中國研發的光刻機在65納米以上，而中國正在努力研發28納米以下的浸潤式光刻機，浸潤式光刻機可以發展到7納米工藝。

中國的芯片制造企業目前就以浸潤式光刻機研發接近7納米的工藝，某國産手機的5G芯片被認爲就是以接近7納米的工藝生産，這是國産芯片的重大進步，意味著國産芯片在先進工藝方面取得了重大突破。

業界人士指出中國所需求的芯片，7納米以上工藝占七成到九成，中國如能實現7納米的大規模量産，那麽國産芯片的自給率可以大幅提升，而這幾年中國芯片由于國産芯片替代，芯片進口大幅減少，2023年的芯片進口金額較2021年減少了近千億美元。

俄羅斯如今也開始自研光刻機，在于衆所周知的影響，導致俄羅斯無法進口光刻機，而推進自研光刻機，如今它實現自研光刻機的重大突破，代表著它的光刻機産業開始起步。

對于光刻機這個行業來說，有了起步，後續可以逐步升級，光刻機本身就是一條很長的産業鏈，ASML的EUV光刻機就需要全球5000家企業協作生産，俄羅斯實現自研光刻機，意味著它已打造了一條完整的光刻機産業鏈。

不過從俄羅斯的光刻機産業發展也可以看出，它的進展過于緩慢了，預計到2026年才量産130納米光刻機，而2026年全球的先進工藝將發展到2納米，俄羅斯的光刻機發展無疑比全球落後太多。

全球的芯片産業鏈曾經強調自由貿易，但是卻由于種種原因被打斷，如今各國都開始發展自己的芯片産業鏈，對全球芯片産業將産生重要影響，這樣的結果顯然與自由貿易相違背，導致如此結果是某國造成的，它曾力推自由貿易，如今卻又強勢打斷，凸顯出它的強橫和任性。