在當今芯片制造領域裏，光刻機無疑是其核心設備，也是最耀眼的“明星”。它就像是一位魔法師，將複雜的電路圖案投射到芯片上，從而創造出了無數令人驚歎的科技奇迹。然而，光刻機裏面涉及上十萬個零件，需要成千上萬的供應商提供核心部件，其制造難度極高。而在這個領域中，ASML一直以來都是遙遙領先的王者。

ASML的光刻機，特別是EUV光刻機，對于先進芯片的制造有著舉足輕重的作用。然而，就像人生總有意外一樣，ASML可能也沒有預料到，光刻機的世界正在發生一場“大反轉”。新技術的出現，就像一場突如其來的風暴，讓人不禁想問：EUV 光刻機還能保持優勢嗎？

讓我們回顧一下光刻機的曆史，就像是觀看一場驚心動魄的賽車比賽。在 1980 年之前，美國的半導體設備廠商憑借先發優勢，在賽道上一馬當先。當時的“光刻三雄”——GCA、優特、珀金埃爾默三家美國企業，占據了全球市場的大部分份額。

然而，時間的車輪滾滾向前，20世紀80年代以後，賽道上的領跑者變成了日本的尼康和佳能。它們抓住了技術變遷的機遇，迅速崛起，成爲了“光刻機雙雄”。直到21世紀初，ASML開始崛起，2009年就占據了70%的市場份額。雖然尼康和佳能依然在光刻機領域擁有一定的市場份額，但與 ASML相比，已經相形見绌。

要知道ASML在1984年才成立，但它後來居上，憑借著浸沒式DUV光刻機的技術突破，實現了彎道超車。值得一提的是，英特爾牽頭成立的EUV技術聯盟將尼康等日企拒之門外，這使得 ASML得以在EUV光刻機領域獨領風騷。然而，正如賽車比賽中沒有永遠的冠軍一樣，光刻機的故事也在不斷續寫。

此前有一位業內人士表示：想要實現光刻機的彎道超車或許很難，可是讓一家光刻機巨頭“衰弱”卻並沒有那麽困難。這一觀點，從美國三巨頭到日本雙雄再到ASML，已經證實是可信的。

而如今，ASML就面臨著“衰弱”的風險，因爲新技術已經出現。

近期，科學家提出的BEUV技術讓人眼前一亮。它能夠實現更短的波長，業內人士甚至預測，到2035年之後，EUV光刻機可能會被BEUV光刻機所取代。然而，在BEUV技術方面，ASML的表現並不出色，或者說沒有技術資本，令其難以形成優勢。

不僅如此，佳能推出的納米壓印技術也來勢洶洶，制造成本和使用成本僅爲EUV光刻機的十分之一，優勢明顯。去年10月，佳能就曾對外宣布，其公司開發並正在銷售的“納米印刷”（Nanoprinted lithography）技術的芯片生産設備 FPA-1200NZ2C，可以制造5nm芯片。

去年年底，該公司還透露，其公司“納米壓印光刻機”有望在2026年實現2nn芯片制造。意味著，這種設備已經達到了EUV光刻機的水平，而且比EUV更便宜更好用，將來有望甚至將顛覆行業巨頭ASML。該設備的面世，對ASML來說並不是好事，讓其面臨著巨大的競爭威脅。

可以說，如今的 ASML，面臨著多重挑戰。EUV光刻機的出口受限，新技術的湧現，都讓這位光刻機巨頭的日子不那麽好過。想要保住自己的市場份額和領先地位，ASML恐怕需要付出更多的努力。對于我們來說，這算是一場精彩絕倫的大戲，因爲只有顛覆行業，才能有彎道超車的希望。

在這個充滿變數的科技世界裏，誰能笑到最後？ASML 是否能夠在光刻機領域實現彎道超車？讓我們拭目以待。也許，下一個科技奇迹就在不遠處等待著我們。