據韓國一則消息傳聞稱，蘋果正在爲未來的iPhone相機測試一種新的防反射光學塗層技術，這可能會通過減少鏡頭光暈和幽靈影像等僞影來提高照片質量。

韓國Naver博客上的”yeux1122″ 援引了蘋果供應鏈內的公司消息源稱，蘋果正在考慮引入新的原子層沉積（ALD）設備到iPhone相機鏡頭制造過程中。

ALD涉及將材料一層一層地沉積到基底上，從而可以極其精確地控制厚度和組分。其使用可以讓制造商將非常薄的材料層應用到半導體設備上，包括相機組件。

在相機鏡頭方面，ALD可用于塗抹防反射塗層，有助于減少在明亮光源（如太陽）直射鏡頭時可能出現的光線和光環等攝影僞影。

ALD還可以減少幽靈影像，這是一種圖像失真類型，弱的、次要的圖像出現在照片中，通常出現在明亮光源的對面。這種情況發生在光線在鏡頭元件和相機傳感器的表面之間反射回反射的過程中。

此外，經過ALD處理的材料可以保護相機鏡頭系統免受環境損害，同時不會影響傳感器高效捕捉光線的能力。

Naver博客聲稱這種制造過程將應用于蘋果”下一代”iPhone系列中的”Pro型號”，這似乎是指iPhone 16系列中一個或兩個高端型號。當然，考慮到傳聞的時機，結合目前這個時間點，不應排除這一技術可能是爲明年的iPhone 17 Pro而准備的。

預計即將推出的iPhone 16 Pro將包括具有多達5倍光學變焦的四棱台鏡頭功能 – 這一功能目前僅在蘋果智能手機系列中的iPhone 15 Pro Max上獨有。蘋果通常會在9月中旬左右推出新一代iPhone。