ASML最先進EUV光刻機今年訂單已經被Intel包攬，其單台售價超過了25億元。據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計劃生産的五套設備也將全部運給這家美國芯片制造商。
消息人士稱，由于 ASML 的高數值孔徑 EUV 設備産能每年約爲 5 到 6 台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存，而英特爾的競爭對手三星和 SK 海力士預計將在明年下半年才能獲得該設備。
High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代産品的1/1.7。
更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實現更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負載至關重要。
這台EUV已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在2025年年底開始使用該系統進行生産。
