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芯片制造的過程非常複雜，會涉及到各種半導體設備，材料。主流的技術掌握在國外供應商手中，ASML壟斷了EUV光刻機，日本壟斷了光刻膠。中國廠商距離EUV光刻機還有一定的水准，但是在光刻膠方面，六家中企相繼突破，芯片問題“只差一步”了，外媒：難以置信！

日本沒有世界頂級的芯片制造商，但是在半導體産業鏈中，日本的作用是非常大的，各大芯片制造商都需要找日本廠商購買光刻膠。光刻膠是一種用于半導體制造中的關鍵材料，用于在芯片制造過程中對硅片表面進行光刻圖案的處理。

日本在光刻膠産業方面具有較強的實力，擁有多家知名的光刻膠制造企業，如信越化學、三井化學和東京毅力科技。這些企業在光刻膠技術研發、生産和市場占有率方面處于領先地位，高端EUV光刻膠更是達到絕對的壟斷級地位。

如果沒有光刻膠的支持，芯片制造將無法進行精確的圖案定義和轉移，大大影響芯片的性能和質量，後續的刻蝕，離子注入等步驟也無法進行了。所幸的是中國廠商非常爭氣，相繼突破了可用于7nm制程的ArF光刻膠技術。

根據市場調研顯示，上海信陽，南大光電等中企正在進行ArF光刻膠的驗證，說明技術儲備的問題已經解決了，待驗證完成後，或許就會根據客戶的需求投入量産。

ArF光刻機是僅次于EUV光刻膠的材料，最高可應用于7nm芯片制造節點，其余的G線，I線光刻膠也有不同的進展。面對中企這樣的進展突破，外媒直言：難以置信！

光刻膠在現代半導體工業中扮演著至關重要的角色，是確保芯片制造過程順利進行的關鍵材料之一。一旦解決了光刻膠的問題，很多事情都能迎刃而解，繼續向前，芯片問題“只差一步”了，也就是光刻機。

要知道光刻機是芯片制造必不可少的設備，價值遠超普通的半導體設備，最頂級的EUV光刻機可以賣到數億美元一台。在芯片制造過程中，光刻機通過照射紫外光或激光光束來暴露光刻膠，然後對光刻膠進行顯影處理，最終將所需的圖案轉移到硅片表面上。

EUV光刻機量産技術掌握在荷蘭ASML公司手中，美國不允許該公司隨意出貨EUV光刻機，所以中國大陸至今沒有一台，只能采用中低端的DUV光刻機。ASML說過，要是不和中國分享技術，他們就會自己去研究。

這番話的背後，其實ASML是在擔心中國有朝一日取得光刻機技術的最終突破，到那時候就不需要ASML的産品了，將失去很大的市場機會，甚至迎來新的競爭對手。

目前中國已經實現90nm光刻機的量産，28nm制程光刻機也在加緊研究，相信中國廠商會不負衆望，帶來驚喜。

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