2024年1月，荷蘭政府取消ASML旗下高級型號DUV光刻機，今年起不再向中國大陸發送相關型號光刻機。

不僅如此，對于某些中國|“先進芯片代工廠”，連一些中端DUV光刻機也無法獲得出口許可。

那麽，國産7納米芯片從哪裏來？我們來分析一下。

中國最先進制程可以制造7納米芯片，這是公開的消息。中芯2021左右就傳出7納米的消息。

衆所周知的是，22納米以下的幾代制程，都是采用鳍片晶體管結構（FinFET）的縮放。在這個尺度上，2019-2024年，我國芯片制程的瓶頸並不在光刻機上。

也就是說，這個階段，光刻機制裁的直接影響還沒有顯現出來。

所以從2020到2024年，如果按照兩年一代的話，2020年14納米試産，2022年7納米試産，2024年5納米試産是正常進度。

在荷蘭吊銷高級duv光刻機許可了之前，中國企業已經采購了大量的高級型號的duv光刻機，這些光刻機基本上可以滿足7納米甚至5納米制程的需求。

當然，良率是另一回事兒。

整體上分析，所謂的國産7納米芯片甚至5納米芯片，仍然采用的是進口的高級型號duv光刻機完成的。

我曾經多次撰文指出，28納米光刻機並不能直接用來生産14納米芯片或者是7納米芯片。這其中主要包括三個方面的問題：

1，光學系統的實際分辨率的問題，而不是理論分辨率。

2，光刻機機台的控制精度問題。

3，材料和工藝問題。

因此，目前國産7納米芯片，並不等同于“全國産供應鏈7納米芯片”。

目前，采用ASML的高級型號的DUV光刻機以及上一代的FinFET晶體管構架，的確可以發揮其極限性能，甚至達到5納米芯片的分辨率。

但是，ASML已經推出第一代和第二代EUV光刻機，並且依托于EUV光刻機，全球半導體産業已經開始導入新一代、新二代的晶體管構架，將中國的差距不斷的拉大，這是被掩蓋在“遙遙領先”的口號之下的--

真正的光刻機困局！